Pd/Ni₅P₄ 缺陷纳米片用于酸性喹啉电催化加氢制 THQs(中国专利)

基本信息

项目内容
类型中国发明专利申请
公布号CN 118854361 A
公布日2024.10.29
申请号202411079115.4
申请日2024.08.07
申请人嘉兴大学
发明人曹勇勇
IPCC25B 11/093; C25B 3/09

核心思路

Pd/Ni₅P₄ 缺陷纳米片 为催化剂,在 酸性水溶液 中以水为氢源,对喹啉进行电催化加氢,室温下合成 1,2,3,4-四氢喹啉 (THQs)。

催化剂制备

四步法:

  1. Ni(OH)₂ 前驱体 — 镍盐 + 尿素 水热 (100–160°C, 12–16 h)
  2. Ni₅P₄ — Ni(OH)₂ + 磷源 (NaH₂PO₂/Na₃PO₄/P₂O₅),N₂ 气氛 400–600°C 煅烧 1–5 h
  3. Pd/Ni₅P₄ — Ni₅P₄ + 钯源 (Pd(acac)₂/PdCl₂/Pd(OAc)₂),N₂ 气氛 300–500°C 煅烧 1–3 h
  4. Pd 负载量: 0.5–2 wt%

催化剂形貌:纳米片,表面有明显缺陷结构(SEM 确认),XRD 显示主相为 Ni₅P₄,无明显 Pd 峰 → Pd 掺杂进入 Ni₅P₄ 晶格。

电催化喹啉加氢条件

参数范围
反应器H 型电解池,离子交换膜隔开
阴极Pd/Ni₅P₄ 浆料滴涂于泡沫镍 (2×2 cm²)
阳极Pt 片
阴/阳极液酸性溶液(优选 0.5 M H₂SO₄)
喹啉浓度5–20 mmol/L
电流5–20 mA
电压1–8 V
反应时间20–120 min
后处理二氯甲烷萃取

实施例性能汇总

实施例Pd 量酸性介质电流时间喹啉转化率THQs 选择性
1 (最优)2%0.5 M H₂SO₄20 mA40 min95%97%
21%0.2 M HClO₄10 mA50 min87%93%
31%1 M HCl15 mA50 min92%94%
42%0.1 M HNO₃20 mA80 min94%95%
52%0.5 M H₂SO₄10 mA100 min88%93%
对比(Ni₅P₄)0%0.5 M H₂SO₄20 mA40 min62%89%

关键技术特点

  1. 酸性条件:与 paper12-cu-cu2o-quinoline-hydrogenation(碱性 1 M KOH)形成鲜明对比
  2. Pd 掺杂效应:对比例纯 Ni₅P₄ 转化率仅 62%,Pd 掺杂后提升至 95% → Pd 与 Ni₅P₄ 强相互作用促进底物吸附活化
  3. 缺陷结构:纳米片表面缺陷有利于底物扩散、富集及产物脱附
  4. 水作氢源:绿色环保,避免使用高压 H₂

与本 wiki 的关联

  • paper12-cu-cu2o-quinoline-hydrogenation 同为喹啉电催化加氢制 THQs,但体系不同:
    • Paper 12: Cu/Cu₂O 双位点、碱性 KOH、耦合苯甲醇阳极氧化
    • 本专利: Pd/Ni₅P₄、酸性 H₂SO₄、简单 OER 阳极
  • 属于 copper-oxide-organic-electrosynthesis 概念页涉及的有机电合成大主题
  • 验证了喹啉电催化加氢在不同催化剂/pH 条件下的可行性

局限性

  • 专利文献,无深入机理探讨(无 DFT、无原位表征)
  • 无法拉第效率数据
  • 催化剂稳定性/循环性未报道
  • 非铜基催化剂,但对用户课题的参考价值在于:对比不同催化体系(Pd/NiP vs Cu/Cu₂O)在喹啉加氢中的表现